磁(ci)(ci)(ci)(ci)粉檢測(ce)的原(yuan)理是鐵磁(ci)(ci)(ci)(ci)材料經過(guo)磁(ci)(ci)(ci)(ci)化(hua)后產生(sheng)強烈的磁(ci)(ci)(ci)(ci)感應，磁(ci)(ci)(ci)(ci)場(chang)密度(du)增加(jia)幾百(bai)到(dao)幾千(qian)倍。如果材料中(zhong)存在不(bu)連續，包括缺陷引起的不(bu)連續和(he)結構、形狀、材料等(deng)原(yuan)因引起的不(bu)連續，磁(ci)(ci)(ci)(ci)場(chang)線(xian)就會發(fa)生(sheng)變形，其(qi)中(zhong)一些會從材料表(biao)面逃逸，穿(chuan)過(guo)空間，形成(cheng)漏(lou)磁(ci)(ci)(ci)(ci)磁(ci)(ci)(ci)(ci)場(chang)。漏(lou)磁(ci)(ci)(ci)(ci)場(chang)的局部磁(ci)(ci)(ci)(ci)極可以吸(xi)引磁(ci)(ci)(ci)(ci)粉等(deng)鐵磁(ci)(ci)(ci)(ci)性(xing)物質，通過(guo)觀察磁(ci)(ci)(ci)(ci)粉的痕跡來達(da)到(dao)探測(ce)目的。

磁(ci)粉檢(jian)測(ce)特(te)點(dian):視覺缺(que)陷顯示，靈敏度高，并能(neng)檢(jian)測極小的裂紋和(he)其他(ta)缺(que)陷。2. 檢測速度(du)快，操作簡單，成(cheng)本低。3.適用(yong)于(yu)鐵磁性(xing)材料的檢(jian)測，不能用(yong)于(yu)非鐵磁性(xing)材料的檢(jian)測。4. 只能(neng)(neng)檢(jian)測表(biao)面(mian)和(he)近表(biao)面(mian)缺陷，不能(neng)(neng)用(yong)于檢(jian)測內部缺陷。一般可以檢(jian)測到深度為1-2mm的近(jin)表面缺(que)陷(xian)，而使用(yong)強直流磁場(chang)可(ke)以檢測到深(shen)度為3-5mm的近表面缺陷。5. 可用(yong)于(yu)檢(jian)測(ce)與磁場方向夾角較大的缺陷，但不適用(yong)于(yu)檢(jian)測(ce)夾角小于(yu)20°或與(yu)磁(ci)(ci)場(chang)(chang)方(fang)向(xiang)平行的(de)缺陷(xian)(xian)。磁(ci)(ci)粉(fen)檢測利用(yong)工件(jian)缺陷(xian)(xian)位(wei)置(zhi)的(de)漏磁(ci)(ci)場(chang)(chang)與(yu)磁(ci)(ci)粉(fen)之間(jian)的(de)相(xiang)互作用(yong)。它利用(yong)了鋼(gang)(gang)制品表面(mian)缺陷(xian)(xian)和近表面(mian)缺陷(xian)(xian)之間(jian)的(de)磁(ci)(ci)導(dao)率(lv)差異以及鋼(gang)(gang)的(de)磁(ci)(ci)導(dao)率(lv)。這些材料(liao)磁(ci)(ci)化后，不連續(xu)區(qu)域(yu)的(de)磁(ci)(ci)場(chang)(chang)會(hui)發生(sheng)畸變，在(zai)工件(jian)表面(mian)的(de)一(yi)些漏磁(ci)(ci)位(wei)置(zhi)形成(cheng)漏磁(ci)(ci)磁(ci)(ci)場(chang)(chang)，吸引磁(ci)(ci)粉(fen)在(zai)缺陷(xian)(xian)位(wei)置(zhi)形成(cheng)磁(ci)(ci)粉(fen)堆積——磁(ci)痕(hen)。在適當的(de)(de)光照(zhao)條件下(xia)，通過揭示缺陷的(de)(de)位置和形狀，觀察和解釋這些磁(ci)顆(ke)粒(li)的(de)(de)積累，實(shi)現磁(ci)顆(ke)粒(li)檢測(ce)。